1月14日晚间，中微公司发布2023年年度业绩预告，预计去年营业收入约62.6亿元，同比增长约32.1%，预计去年归属于母公司所有者的净利润为17.00亿元至18.50亿元，同比增加约45.32%至58.15%。
中微公司是一家生产刻蚀机的公司。2023年，刻蚀设备销售预计约47.0亿元，同比增长约49.4%；MOCVD设备销售约4.6亿元，同比下降约34.0%。
在芯片制造流程中，有三大核心技术：光刻技术、刻蚀技术、薄膜沉积技术。对应的设备分别是光刻机、刻蚀机、薄膜机。
薄膜沉积是在制造芯片的晶圆上铺衬底材料。
光刻是通过光化学反应把电路图形信息转移到衬底材料上，是生产半导体的最核心的工序。光刻机技术要求最高，被称为半导体工业皇冠的明珠，主要市场份额被荷兰的阿斯麦和日本的佳能、尼康等公司瓜分。
刻蚀是利用化学或物理的方法有选择性地从硅片表面去除不需要材料，是光刻完成之后最重要的环节。刻蚀机市场上有泛林半导体、东京电子、应用材料三大巨头。刻蚀机国内厂商崛起很快，中微公司是其中的代表，拥有自主产权关键技术。根据东方证券研究，2023-2025年，中国大陆刻蚀设备市场空间平均约377 亿元/年。
中微公司把此次业绩增长归结为三个因素：人工智能、云计算、大数据、自动驾驶的火热，带动芯片需求增长，进而刺激刻蚀机的需求，自家刻蚀机又很过硬；公司研发的新产品投入市场后，得到了不错的反馈；南昌、上海等地的新产线投产，产能提升。
2004年，已经从应用材料公司退休的尹志尧受中学校友、时任上海市经委主任的江上舟邀请回国，和15人团队一起，在上海创立中微公司，开发国产刻蚀设备。此时的尹志尧已经60岁了。
尹志尧是北京人，中学毕业于北京四中，1967年毕业于中国科技大学化学物理系。之后分配到兰州炼油厂，后来转到中科院兰州物理化学所工作。1978年他进入北京大学化学系读研究生，1980年赴美留学，于1984年获得美国加州大学洛杉矶分校物理化学博士学位。
之后，尹志尧先后在英特尔、泛林半导体、应用材料等公司工作。在硅谷的20年里，尹志尧个人在半导体行业积累了86项美国专利和200多项国际专利。
2007年，中微公司研发出了*代介质刻蚀机。之后研发出等离子刻蚀机，更是一战成名天下知。但早期中微公司面临市场不买账的问题：之前一直用美国产品，突然一家新的中国公司说用我们的，你敢用吗？
但是海外制裁加快了国产替代的步伐。另外，随着公司的发展，公司产品逐渐得到客户认可，打破国际大厂垄断。在中微半导体招股书曾提到，中微在两家国内知名存储芯片制造企业采购的刻蚀设备台数订单份额中占据一席，订单份额分别为15%和17%。
从 2012 年开始，中微连续 6年的每年营收成长率都保持 35% 上下，到2018年更是超过 50%，也是在2018年实现了盈利。2016年到2021年，6年时间里中微公司的营收增长近五倍，已经连续4年实现盈利。
中微公司的主要业务包括等离子体刻蚀设备、深硅刻蚀设备和LED芯片领域用薄膜沉积（MOCVD）设备等关键设备的研发、生产和销售。
2019年，中微公司在深交所科创板上市。截至1月15日发稿，中微公司市值达到850.2亿元，今年内有望冲击千亿市值。
当年，阿斯麦依靠DUV与EUV两种光刻机引领了光刻机市场。未来，中微公司是否能依靠先进离子体刻蚀机成为另一个赛道的阿斯麦？拭目以待。
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